Innovative Verfahren für Laser Annealing, Kristallisation und Materialbearbeitung

In den INNOVAVENT - Applikationslaboren stehen Optiksysteme zur Erzeugung von linienförmigen Strahlen mit ns-Lasern bei 532 nm und mit kontinuierlichen Diodenlasern bei 808 nm zur Probenbearbeitung zur Verfügung.
In drei Reinräumen mit zusammen über 80 m² existieren hervorragende Voraussetzungen für Machbarkeitsstudien und Entwicklungen von lasergestützten Prozessen.
Unser Team verfügt über langjährige Erfahrung im Annealen und Kristallisieren von Halbleiterschichten. Gerne diskutieren wir Ihre Anforderungen mit Ihnen.

INNOVAVENT
benutzt Laser der
JENOPTIK Laser, Optik, Systeme GmbH.