VOLCANO^® Laser Optik verwendet zylindrische Optik für die Fokussierung und Abbildung von Gauß-Strahlen. Insbesondere werden damit lange Linien bis 200 mm Länge erzeugt, die in der Scanachse eine Halbwerts-breite von 5-10 µm haben können und in der bis 200 mm langen Dimension eine Unschärfe von 0,1 bis 1 mm aufweisen. Für die zylindrische Abbildung werden INNOVAVENT FALCON^® Objektive eingesetzt. In der VOLCANO Laser Optik wird der 515 nm JenLas^® ASAMA 80-8 eingesetzt. Diese Laserquelle erlaubt die Pulslänge zwischen 300 ns und 1.200 ns einzustellen und ist angepasst an die Erzeugung einer Laserlinie.

Die neue VOLCANO^® LINE BEAM Laser Optik erzeugt eine gaußförmige Linie mit einer Breite von >20 µm FWHM und einer Länge bis zu 750mm und mehr. Laserlicht der Wellenlänge 532 nm wird über Lichtleitfasern mit hohen Leistungen in das Optikmodul geführt. Diese Methode erlaubt mehrere Festkörperlaserquellen (Starlase 200G und 400G, Powerlaser Ltd., UK) zu kombinieren und eine Energiedichte von >500 mJ/cm² in einer 750 mm  langen Laserlinie zu erzeugen. Mit dieser Liniengeometrie können p-Si-Schichten erzeugt werden, die in der Fertigung von OLED- und LCD TFT Back Plates benötigt werden.

In der zweiten Produktgruppe, LAVA^® Laser Optik, wird der 515 nm JenLas^® ASAMA 100-1 in der 50 kHz oder 100 kHz Variante mit kleinerer Pulsenergie (1 mJ oder 2 mJ) verwendet. Die Pulslänge kann bei 100 kHz Rep.-Rate zwischen 300 ns und 600 ns ausgewählt werden. LAVA^® Laser Optik verwendet sphärische Abbildungsobjektive. Das CaF2 Hochleistungsobjektiv EAGLE^® plus ist eine zentrale Komponente, die frei von thermischen Linsen 2-dim scharfe Linien in einem Bildfeld bis 10 mm Durchmesser ermöglicht.