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| Innovative Verfahren für Laser Annealing, Kristallisation und Materialbearbeitung | |||||||||||||||||||
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Den Schwerpunkt bilden Anwendungen von Festkörperlasern bei 355 nm, 532 nm, 808 nm und 1064 nm für thermische Prozesse im ns- und ms - Bereich, vornehmlich an Silizium und anderen Halbleitermaterialien. Dotierungsaktivierung, Kristallisierung amorpher Schichten für 3-dimensionale Schaltkreise und Annealen von Kristalldefekten stehen dabei im Vordergrund.
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Das Team | ||||||||||||||||||
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Interesse?
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Technologie
und Anwendungsentwicklung |
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| INNOVAVENT
GmbH Göttingen |
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